第4回ナノテクノロジー分野における日米合同シンポジウム「ナノフォトニクス」開催について

文部科学省 (MEXT) - 全米科学財団 (NSF) 主催

2004.09.14

独立行政法人物質・材料研究機構

このたび、文部科学省 (MEXT) と全米科学財団 (National Science Foundation:NSF) は、ナノテクノロジー分野における第4回日米合同シンポジウム、「ナノフォトニクス」“ナノの光の粒で加工、デバイス、システムの限界を超える”を開催致します。

概要

このたび、文部科学省 (MEXT) と全米科学財団 (National Science Foundation:NSF) は、ナノテクノロジー分野における第4回日米合同シンポジウム、「ナノフォトニクス」“ナノの光の粒で加工、デバイス、システムの限界を超える”を開催致します。
従来の光技術の限界を超える科学技術として21世紀の社会を支える先端的かつ広範なシステム構築につながる可能性を秘めたナノフォトニクスについて、日米の第一線で活躍する気鋭の研究者にご講演を頂くことにより、最先端のナノフォトニクス研究開発の状況をオーバービューすることを目指します。

1.開催日時 :: 平成16年10月25日 (月) 13 : 15~17 : 20
2.開催場所 :: 東京大学　武田先端知ビル5階　武田ホール
(東京都文京区弥生2 - 11 - 16　本郷キャンパス浅野地区)
3.主催 :: 文部科学省
全米科学財団
4.参加者数 :: 約200名
5.参加費 :: 無料
6.参加申込方法 :: ナノテクノロジー総合支援プロジェクトセンターホームページよりお申し込み下さい。
登録締め切り10月20日 (水) 。　
なお、定員を超えた場合は、その時点で登録を締め切らせて頂きます。
7.その他 :: 同時通訳つき