第四回ナノフォトニクス国際会議がつくば市で開催

平成22年5月30日~6月3日、筑波国際会議場において、米国光学会 (OSA) ・日本光学会 (OSJ) 共催、つくば市協賛、物質・材料研究機構 (NIMS) 、筑波大学、光産業技術振興協会ほか海外2大学後援の、第四回ナノフォトニクス国際会議2010 (The 4th International Conference on Nanophotonics 2010) が開催されました。本会議は、ナノ構造・材料における光学/フォトニクス の物理、化学、設計・作製・評価技術、デバイス応用技術に関する国際会議です。過去3回は中国開催でしたが、今回の筑波開催を機に、今後3年に1度は中国以外のアジア・環太平洋諸国で開催することが提案されました。
会議は31カ国から約310人 (国内160人、海外150人) が参加し、2名の基調講演、5名の特別講演者、3名の講演, 32名の招待講演、 60件の口頭発表、178件のポスタープレゼンテーション、15社の企業出展・広告支援 のもとで、3日半にわたり計27のセッションで熱心な議論がなされました。NIMSからは、組織委員長を初めとする現地実行委員の主導的な運営や、ホームページのサイト提供などで会議に協力しました。またオープニングセッションではNIMS理事による来賓挨拶がなされました。実行委員・事務局ほか多数の支援による周到な事前準備に加えて、珍しくも連日の爽やかな好天に支えられ、多くの参加者からは、大好評の賛辞が寄せられました。また組織委員会からは、 NIMSに対する深い感謝の意が贈られました。次回の2011年は上海で開催されます。